1.
|
|
Reliability of MIS transistors with plasma deposited Al2O3 gate dielectric film, Journal of Telecommunications and Information Technology, 2001, nr 1 - Dusiński, Emil
|
[■■■■■]
|
|
|
2.
|
|
2001, nr 3, JTIT - artykuły
|
[■■■■■]
|
|
|
3.
|
|
2001, nr 4, JTIT - artykuły
|
[■■■■■]
|
|
|
4.
|
|
2001, nr 2, JTIT - artykuły
|
[■■■■■]
|
|
|
5.
|
|
2001, nr 1, JTIT - artykuły
|
[■■■■■]
|
|
|
6.
|
|
Telekomunikacja i Techniki Informacyjne, 2001, nr 3-4 - artykuły
|
[■■■■■]
|
|
|
7.
|
|
Telekomunikacja i Techniki Informacyjne, 2001, nr 1 - artykuły
|
[■■■■■]
|
|
|
8.
|
|
Telekomunikacja i Techniki Informacyjne, 2001, nr 2 - artykuły
|
[■■■■■]
|
|
|
9.
|
|
2014, nr 2, JTIT - artykuły
|
[■■■■■]
|
|
|
10.
|
|
2014, nr 1, JTIT - artykuły
|
[■■■■■]
|
|
|