polski   English  

Publikacja

Zapisz ten adres...

  • Dodaj do "Zakładek"

Opis publikacji

Bieniek, Tomasz; Beck, Romuald B.; Jakubowski, Andrzej; Kudła, Andrzej, Ultra-shallow nitrogen plasma implantation for ultra-thin silicon oxynitride (SiOxNy) layer formation, Journal of Telecommunications and Information Technology, 2005, nr 1

Trwa otwieranie jedynego wydania publikacji...